松山湖材料实验室2026年11月至2027年01月政府采购意向
松山湖材料实验室2026年11月至2027年01月政府采购意向
公告正文
为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2020〕10号）等有关规定，现将本单位2026年11月至2027年01月采购意向公开如下：
| 序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 落实政府采购政策情况 | 预算金额(元) | 预计采购时间 | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 松山湖材料实验室化学气相沉积设备采购项目 | 标的名称：化学气相沉积设备 标的数量：1 主要功能或目标：用于InP/GaAs外延生长，满足6片2英寸或3片3英寸衬底，配备三区控温加热、旋转、真空、多路MO源及PH₃/AsH₃、N₂/H₂载气单元、真空干泵、水浴槽、PLC控制、安全互锁、原位监测及手套箱，含运输安装调试。 需满足的要求：反应腔漏率≤1×10⁻⁹mbar·L/s、控压精度≤±1%；温控最高1250℃；旋转0～100RPM、精度±0.5RPM；真空5.0～1000mbar可调；MO源12路；配PH₃/AsH₃及N₂/H₂供气路、Ebara或同级别干泵、8个恒温水浴槽、PLC、安全互锁、原位监测及手套箱。 | 遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 | 8,500,000.00 | 2027年01月 | |
| 2 | 松山湖材料实验室刻蚀机设备采购项目 | 标的名称：刻蚀机设备 标的数量：1 主要功能或目标：用于InP和GaAs材料的光芯片的图形化制备 需满足的要求：主要为满足高精度、低损伤的微纳加工需求：实现化合物半导体（GaN、SiC、GaAs、InP等）的高速率、各向异性精细刻蚀，并在纳米尺度独立调控离子能量与密度以降低器件损伤；同时支持ICP-CVD低温沉积高质量介质膜，兼容温度敏感材料，支撑光电子、功率器件及MEMS研究。 | 遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 | 5,200,000.00 | 2027年01月 | |
| 3 | 松山湖材料实验室磁控溅射镀膜系统采购项目 | 标的名称：磁控溅射镀膜系统 标的数量：1 主要功能或目标：设备配备装载互锁loadlock腔体、晶圆传输腔体及4个工艺腔体。能实现AlScN薄膜（30%钪原子浓度）、AlN薄膜、金属Mo薄膜的生长溅射，能通过Ion Beam Trimming工艺更进一步优化薄膜的膜厚均匀性。 需满足的要求：支持4~8英寸；真空度5x10-7 Torr；双靶双电源，带旋转台，无加热无偏压。AlN膜均匀性≤0.2 %，片间<0.1%, 取向半宽高<1.5度，应力±50Mpa；AlScN膜均匀性≤0.3%，片间<0.1%, 取向半宽高<1.7度；应力±100Mpa；Mo膜均匀性≤0.5 %，片间<0.3%，取向半宽高<2度；应力±50Mpa。轰击优化膜厚速率≥2.6nm/分, 均匀性<1nm, 精度<±1 | 遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策 | 7,800,000.00 | 2027年01月 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
松山湖材料实验室
2026年11月09日
内容提要
松山湖材料实验室2026年11月至2027年01月政府采购意向
关键信息
- 化学气相沉积设备采购
- 刻蚀机设备采购
- 磁控溅射镀膜系统采购
投标人资格要求
- 遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策
原始公告：https://gdgpo.czt.gd.gov.cn/maincms-web/articleGd?type=article&id=247c2d36-a6bf-…（本站内容整理自该公开页面，以原文为准）
在「有标了」App / H5 里查看这条标讯的互动版：订阅同关键词、查看同类历史中标、导出清单。
打开互动版 →